研究亮点

“Nonchemically Amplified Molecular Resists Based on Sulfonium-Functionalized Sulfone Derivatives for Sub-13 nm Nanolithography”
2023年9月19日，星期二

发布时间：2024-07-24 【小中大】

线站用户设计并合成了一系列基于连接到不同数量的光敏三苯基锍单元的双（4-丁氧基苯基）砜核的分子型极紫外光刻胶。

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“Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography”
2023年3月1日，星期三