BL08U1B

软X射线干涉光刻分支线站
研究亮点

“Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography”
2023年3月1日,星期三

发布时间:2024-07-24
线站用户使用激光聚焦原子沉积(LFAD)制备的周期为212.8nm的自溯源Cr光栅作为掩模,并通过极紫外干涉光刻对Cr光栅进行二阶倍频。

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