上海光源软X射线干涉光刻线站（BL08U1B）建成于2012年，与上海光源软X射线谱学显微光束线站（BL08U1A）共用光源和前端区。X射线干涉光刻（XIL）技术是利用两束或多束相干X光束的干涉条纹对光刻胶进行曝光的新型先进微、纳加工技术，可以开展几十甚至十几个纳米周期的纳米结构加工。与其他光刻等方法相比，XIL技术具有分辨率高、无邻近效应、无污染、产出高等优点，可以更可靠地获得大面积、高质量的亚50nm的高密度周期性纳米结构。软X射线干涉光刻分支线站的建设，旨在利用利用软X射线低发射度、高亮度和高相干性的优点，在上海光源建立一个高效率、低成本、高精度的纳米加工技术平台。