BL08U1B

软X射线干涉光刻分支线站
线站介绍

科学目标

发布时间:2024-05-29

  满足EUV光刻胶、纳米光学、纳光电子器、X射线探测器、纳米磁学、生物分子自组装及工业应用领域的用户在光刻性能检测、纳米结构制备和组装方面的迫切需要。


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