1.1 确认当日的使用状态，切换光路（如果上次实验为STXM线站）：在Motion control界面，打开Mirror1 操作界面，在X motion选项下点击Home，此时，控制权限切换为XIL使用模式；如需切换到STXM使用模式，在X motion选项下点击Offline。

1.2 将Mirror1 X motion选项下的Position值设定为240，按enter键确认输入。

1.3 根据实验需求，更改EPU gap 值，EUV-IL条件下，gap为37.47；140 eV深度光刻模式，gap为44.2。

1.4 调节Slit1 开口到合适的XIL用光设定值（参考实验记录本最近一次的记录）。

1.5 关闭V3，打开V10，确认 FS2状态为up,FS3状态为down;金靶为down,实验站控制柜上面的两真空计均为开启状态。

1.6 打开光闸，等待光路稳定。

 

2. 样品准备 

样品匀胶，前烘完毕后，可以进入3

 

3.1 确认V11,V12、V13、V15、V16、V18、 CCD软件（Andor SOLIS）、真空计（规g8）是否均为关闭状态，如有未关闭部件，应确保其关闭顺序为：

CCD软件→V12→V15→V16→V11→V13→V18→真空计；

备注：V* 阀门的开关通过控制面板触摸屏进行操作，轻按相关按键2秒，等指示状态显示为相关状态为止，如开启显示为OPEN,关闭显示为CLOSE;CCD软件的关闭可点击软件界面左下角，显示为OFF;真空计的开启为按下C.C.ON 按钮，关闭需按下C.C.OFF按钮。

3.2 确认分子泵和机械泵为关闭状态，如两者为开启状态，应先关闭分子泵控制器，当分子泵转速接近0时，关闭分子泵电源，接着再关闭机械泵（触摸屏上PUMP-1 OFF）。

3.3  打开位于4联装氮气瓶架上的氮气瓶总阀，并调节分压阀到合适压力（小于0.1MPa）,开启放气阀（触摸屏VENT-1 ON）开始放气；卸掉曝光腔进出样门螺丝；待放气完毕，进出样门开启后，进行光栅和样品的更换。

 

4.1 如需更换光栅，需先取下样品架后再更换光栅，光栅必须固定在掩模台的定位栓处。光栅更换完毕后，可通过后端观测窗，再次确认光栅位置。

4.2 更换样品时，样品需放置在样品托架的中部，须注意勿遮挡住样品托架上预留的观测孔。

4.3 样品托架固定在掩模样品台上后，关闭曝光腔进出样门(用螺丝固定法兰，拧螺丝时不必太紧)，关闭放气阀（触摸屏VENT-1 OFF），打开V12，启动机械泵（触摸屏上PUMP-1 ON），5 min后打开分子泵控制器（后部的电源开关按钮），待控制器启动后，按控制器右下角的启动/关闭键，开始启动分子泵程序（绿色指示灯由闪烁变为常亮），按左右控制键选定控制器显示为实际转速（代号 309）。

4.4 关闭氮气瓶总阀和分压阀。待分子泵控制器显示为820Hz满转速时，开启真空计（规g8），当真空度到达5*10^-6 Torr时，开启V13，V18。当真空度优于1*10^-6 Torr时，可以进行后续曝光操作。

 

5.1当真空计上显示的真空度优于1*10^-6 Torr时，将样品台（MASK）移动到观测孔的位置观察真空度状况，确认其继续优于1*10^-6 Torr。

5.2 关闭V12，打开V15,V16,V11,顺序为V15→V16→V11；接着关闭分子泵控制器（按控制器右下角的启动/关闭键，开始关闭分子泵程序，绿色指示灯由常亮变为闪烁），待分子泵控制器显示转速接近0时，关闭分子泵控制器（关掉后部的电源开关按钮），再关闭机械泵（触摸屏上PUMP-1 OFF）。

    

6.1 打开CCD软件(Andor SOLIS)，设定工作温度为-60℃。Shutter control设定为fully auto, Close:Open(ms) =50:50。

6.2 将快门控制按钮切换为CCD控制模式

6.3 提起金靶(AuT)及荧光靶3(FS3),通过CCD观测掩模处的光斑分布情况，微调M2的Angle Motion 使光斑均匀(按绿色VIDEO键采集数据，红色ABORT键停止，再save as ,以时间命名，例如1402)。

6.4 待光斑调试均匀后，将快门控制按钮切换为机柜控制模式，降下光电二级管（PD）(position=0)。打开快门，通常设定为500s，收集光通量数据。打开自动曝光系统（具体参照自动曝光程序相关步骤），确认F0数值，移开光电二级管（position=15000），开始自动曝光。

6.5 曝光结束后放下金靶(AuT)及荧光靶3（FS3）。