能量范围 | 20-200 eV(LEID),200-2000 eV(HEID) |
能量分辨率 | 35000 @ 867 eV |
偏振 | LH/LV/C+/C- |
样品处光通量 | 3.5×1011 phs/s/0.01% BW @ 800eV |
样品处光斑尺寸(PEEM) | 20 ?m×30 ?m |
角分辨光电子能谱(ARPES) | 最佳能量分辨率21 meV @ 400 eV 最低温12 K (Carving样品架) 样品处理: 氩刻/高温退火1000℃/K-cell 样品生长表征:MBE+RHEED+LEED |
光电子显微镜(PEEM) | 分辨范围0.65-100 um 空间分辨率 LEEM 3 nm; PEEM 6 nm(汞灯)/20 nm(X光) 能量分辨率 0.15 eV 备选光源:飞秒激光(波长800/400 nm)/汞灯(4.9eV) 原位处理:氩刻/K-cell/E-beam/ O2, Ar等气氛 |
辅助设施 | Unilab Pro SP(1250/1000)型手套箱,制备和存放空气敏感样品 |