上海光源（中文版）

线站设备

原位手套箱旋涂装置

发布时间：2024-09-23 【小中大】

水氧可降至1%以下，旋涂转数范围：0—5000r/min; 退火温度是：0—350℃；主要用于薄膜样品的制备过程中的结构变化的原位研究。

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