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薄膜原位加热/冷却设备
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温度范围: 450度~液氮;可以对于薄膜材料在低温下的结构变化进行
毛细管原位加热装置
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毛细管内径:0.5—2毫米;加热温度:最高800℃,主要用于粉末样品的原位加热实验。
原位真空蒸镀衍射设备
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带有两个蒸发源,每个蒸发源温度最高到800℃,可实现双源共蒸。
原位手套箱旋涂装置
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水氧可降至1%以下,旋涂转数范围:0—5000r/min; 退火温度是:0—350℃; 主要用于薄膜样品的制备过程中的结构变化的原位研究。
超高真空低温衍射装置
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温度范围:室温~液氦温度;真空度:~10-9mbar; 主要用于需要需要超低温条件下的样品测量。