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实验站 |
设备 |
主要性能参数 |
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LVP1 |
200吨DDIA压机 |
LPO 200-300/70,DDIA module,最高压力200吨 一级3mm/6mm 压砧,或一级 27mm(一级加压 32mm叶蜡石块,二级14mm压砧) 3KW加热系统,加热温度最高2000 K以上 |
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单元高纯锗探测器 |
Canberra GL0110,能量分辨性能:160 eV@5.9 keV 500eV@122keV | |
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ENG1 |
多维样品台 |
Huber 高精度九轴样品台: 下部 5 轴样品台:(载重≤200kg) X1轴(水平垂直光路):-1000~ +200mm Z1轴(竖直垂直光路):0-100 mm Phi轴(沿Z轴转角):360°(精度0.005°) X-tilt轴:±5° Y-tilt轴:±5° 上部气浮转台:(载重≤50kg) X2轴(水平垂直光路):±25mm Y2轴(水平平行光路):±25mm Z2轴(竖直垂直光路):0-100mm w轴(沿轴转角)360° |
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高能超快面探 |
PILATUS3 X CdTe 2M:成像面积253.7mm×288.8mm,像素大小172μm,像素阵列1475 × 1679,单光子探测,最高250fps采样频率,0.95ms读出时间,20bit图像 | |
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多镜头成像系统 |
光学镜头放大倍数分别为0.29~1.8X,2X和7.5X a)高分辨相机Pco.edge5.5:像素大小6.5μm,像素阵列2560×2160 b)快速成像相机FASTCAM Mini UX100:像素大小10μm,像素阵列1280×1024,单色光/白光兼用,最高帧率204800fps | |
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LVP2 |
2000吨双模大压机 |
LPO 2000-710/80,DDIA/Kawai双模,最高压力2000吨 Kawai模具:一级47mm,6-8加压/二级25.4mm压砧 DDIA模具:一级49mm,6-8加压/二级25.4mm压砧;一级27mm,6-8加压/二级14mm压砧,6-6加压/二级12mm压砧 6KW加热系统,加热温度最高2000 K以上 |
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单元高纯锗探测器 |
Canberra GL0110,能量分辨能力:160eV@5.9 keV;500eV@122keV | |
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SX165面探 |
成像面积165mm直径,像素大小80μm,像素阵列2048×2048,16bit图像 | |
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ENG2 |
大载重五轴样品台 |
最高承重2000kg,台面大小直径1m,各轴行程和精度: X轴(水平垂直光路):±500mm(精度10μm) Y轴(水平平行光路):±50mm(精度10μm) Z轴(竖直垂直光路):500mm(精度10μm) Rx轴(沿X轴转角):±2°(精度0.02°) Phi轴(沿Z轴转角):360°(精度0.005°) |
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23元高纯锗探测器 |
能量分辨性能 成形时间3μs:好于170eV@5.9keV,好于520eV@122keV 成形时间0.2μs:好于400eV@5.9keV,好于700eV@122keV | |
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17寸平板探测器 |
Mercu 1717V,成像面积43cm×43cm,像素大小139μm,像素阵列3072×3072,10帧采样频率,16bit图像,亦可转移至其他实验棚屋使用 | |
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拉伸机 |
KAPPA Mini 5kN,最高荷载5kN | |
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疲劳机 |
Steplab UD040,最高动态荷载35kN,静态荷载25kN,电磁加热最高1300℃ | |
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其他 |
热台 |
Linkam TS1500,最高加热温度1500 K |