研究亮点
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“Nonchemically Amplified Molecular Resists Based on Sulfonium-Functionalized Sulfone Derivatives for Sub-13 nm Nanolithography” 2023年9月19日，星期二线站用户设计并合成了一系列基于连接到不同数量的光敏三苯基锍单元的双（4-丁氧基苯基）砜核的分子型极紫外光刻胶。 -
“Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography” 2023年3月1日，星期三线站用户使用激光聚焦原子沉积（LFAD）制备的周期为212.8nm的自溯源Cr光栅作为掩模，并通过极紫外干涉光刻对Cr光栅进行二阶倍频。